产品特色：

1.涂布速度快、精度高、湿厚均匀;

2.涂布系统封闭，在涂布过程中能防止污染物进入，

3.浆料利用率高、能够保持浆料性质稳定，可同时进行多层涂布

4.适应性强，能适应不同浆料粘度和固含量范围速度同步。

优势

可涂不同粘度的各种材料

涂层厚度从20纳米到150微米以上

良好的涂层稠度：通常优于±3%

高效/材料利用率：材料利用率可达95%

可满足不同需求：从研发到小批量试产、量产

该工艺具有较高的可靠性和鲁棒性，收率可达95%。

适用于S2S和R2R处理模式

矩形阵列的镀膜工艺可以在一个工艺周期内实现

工艺参数

涂层间隙控制：高精度、动态控制涂布头高度（Z轴）

模具运动控制：精确控制模具运动轨迹（包括加速和减速参数）在涂层方向（X轴）

模具设计：高稠度、化学相容性、低充模量、涂条的模具设计与制造

涂层控制：涂层速率（稳定涂层）和涂层轮廓（前后边缘）的高精度数字控制

控制软件：所有配方参数、数据监控与反馈控制、数据采集与分析。